لایه نشانی تبخیر فیزیکی با قوس کاتدی

لایه‌نشانی تبخیر فیزیکی با قوس کاتدی فرآیندی صنعتی است که برای ایجاد پوشش‌های لایه نازک با کیفیت بالا مورد استفاده قرار می‌گیرد. این فرآیند تحت شرایط خلا و در مدهای DC و یا پالسی انجام شود. در هر یک از حالت‌های مذکور، ولتاژ ایجاد شده توسط منبع تغذیه باعث ایجاد قوس الکتریکی بین آند و کاتد می‌شود. جریان قوس بر روی سطح بسیار کوچکی از کاتد متمرکز شده و دانسیته‌ ی جریان بسیار بالایی را ایجاد می‌کند. بالا بودن انرژی یون‌ها در روش لایه‌نشانی تبخیر فیزیکی با قوس کاتدی باعث شده تا لایه‌های نازک پوشش داده شده به این روش در مقایسه با روش‌های دیگر متراکم تر شود. اتم‌های رسوب داده شده به سطح زیرلایه نفوذ کرده و باعث افزایش چسبندگی پوشش می‌شوند. در این روش یون‌ها از انرژی کافی برای تشکیل یک لایه فشرده برخوردار هستند و نیازی به تأمین انرژی حرارتی به واسطه‌ی گرم کردن زیرلایه نیست.

https://mahamax.com/wp-content/uploads/2019/03/Rigaku-Smartlab-xrd.jpg

شرایط خاص و نکات مهم لایه نشانی تبخیر فیزیکی با قوس کاتدی

قیمت به ازای هر run دستگاه محاسبه شده است. دستگاه نیمه صنعتی است و غیر از نمونه های آزمایشی، در دستگاه می توان نمونه های صنعتی(برای تست میدانی) نیز قرار داد. ضخامت پوشش: حداقل1.5 میکرون و به ازای هر 0.5 میکرون ضخامت بیشتر، 20% به هزینه اولیه خدمات افزوده می شود.

درباره آنالیز

لایه نشانی تبخیر فیزیکی با قوس کاتدی

کاربردهای دستگاه لایه نشانی تبخیر فیزیکی با قوس کاتدی

پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار فلزات کروم، تیتانیوم، آلومینیم، زیرکونیم، مس
پوشش دهی نانوساختار نیترید فلزات واسطه (به صورت دو جزئی) مانند ZrN, TiN,CrN
پوشش دهی نانوساختار نیترید فلزات واسطه (به صورت سه جزئی و مولتی لایه) مانند TiCN,TiCrN, CrAlN,TiAlN
پوشش دهی نانو لایه ای نیترید فلزات واسطه (به صورت تناوبی) مانند Cr/CrN, CrN/AlN, TiN/AlN, TiN/CrN
پوشش دهی نانوکامپوزیتی فوق سخت نیترید فلزات واسطه مانند TiSiN, TiCrSiN, TiAlSiN